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紫外光下的AlN陶瓷:lexsyg儀器揭示新型光電材料特性

更新時(shí)間:2025-06-27點(diǎn)擊次數(shù):242

Lexsyg釋光探測器 | 在材料表征科研領(lǐng)域應(yīng)用分享

紫外光下的AlN陶瓷:lexsyg儀器揭示新型光電材料特性 ——從光致發(fā)光到熱釋光,解碼氮化鋁陶瓷的紫外響應(yīng)機(jī)制

紫外光下的AlN陶瓷:lexsyg儀器揭示新型光電材料特性 

在寬禁帶半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,氮化鋁(AlN)陶瓷因其6.2 eV的禁帶寬度和優(yōu)異性能備受關(guān)注。拉脫維亞大學(xué)研究團(tuán)隊(duì)通過lexsyg research TL/OSL儀器系統(tǒng),系統(tǒng)揭示了純AlN及摻雜陶瓷在紫外光作用下的光電響應(yīng)規(guī)律,相關(guān)成果為新型紫外探測器和輻射劑量計(jì)開發(fā)提供了重要參考。

實(shí)驗(yàn)利器:lexsyg TL/OSL系統(tǒng)升級(jí)紫外響應(yīng)研究

研究采用德國Freiberg Instruments公司的lexsyg research TL/OSL發(fā)光分析系統(tǒng)(配備Hamamatsu R13456光電倍增管),并特別升級(jí)了263 nm固態(tài)激光光源(50 μJ,<10 ns脈沖)。該系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了:

1、高靈敏度TL/OSL信號(hào)采集(光譜范圍185-980 nm

2、精確控制升溫速率(1 K/s)和輻射劑量

3、紫外光源與光纖耦合技術(shù)優(yōu)化
通過Andor SR-303i-B光譜儀聯(lián)用,成功捕獲AlN陶瓷在紫外激發(fā)下的熱釋光發(fā)射光譜,發(fā)現(xiàn)320 nm新型發(fā)光帶。

重要發(fā)現(xiàn):摻雜對(duì)AlN光電性能的影響

1、光致發(fā)光(PL)特性

1)所有樣品均呈現(xiàn)300-550 nm寬譜紫外-藍(lán)光發(fā)射(含新型320 nm帶)和600 nm紅光帶(Mn²?雜質(zhì))

2)摻Eu?O?樣品有525 nm綠光發(fā)射(Eu²?特征峰)

3Lexsyg系統(tǒng)驗(yàn)證:紫外激光(193/263 nm)激發(fā)下,紅光帶貢獻(xiàn)明顯差異(圖1

紫外光下的AlN陶瓷:lexsyg儀器揭示新型光電材料特性 

1. (a)P1、P2、Y、GE樣品在193 nm激光輻照后的TL曲線(采集300-700 nm積分發(fā)射信號(hào),輻照后延遲10分鐘

(b) P1P2、YGE樣品在263 nm激光輻照后的TL曲線(采集300-700 nm積分發(fā)射信號(hào),輻照時(shí)間60秒,延遲10分鐘)

2、熱釋光(TL)行為

1、TL主峰位于390 K,摻雜未明顯改變陷阱深度(圖1a

2、Y?O?摻雜樣品TL強(qiáng)度高,但未改善信號(hào)衰減問題

3、TL發(fā)射光譜缺失320 nm帶,揭示(VAl-2ON)?中心的熱穩(wěn)定性(圖2擬合分析)

紫外光下的AlN陶瓷:lexsyg儀器揭示新型光電材料特性 

2. P1、P2、Y、GE樣品經(jīng)193 nm激光輻照后的TL發(fā)射光譜(在390 K下采集,輻照及延遲時(shí)間均為10分鐘)

3、光電效應(yīng)新發(fā)現(xiàn)

在陶瓷材料中觀察到193-254 nm紫外光誘導(dǎo)的光電流(圖3),證實(shí)自由載流子生成機(jī)制。

紫外光下的AlN陶瓷:lexsyg儀器揭示新型光電材料特性 

3.a P1、GY樣品在ArF193 nm)激光輻照下的光電流信號(hào)(輻照開始/結(jié)束以ON/OFF標(biāo)注)

(b) G樣品在激光輻照(193 nm (1)248 nm (2))及配備干涉濾光片的氘燈光源(200 nm (3)、254 nm (4))下的光電流信號(hào)(輻照開始/結(jié)束以ON/OFF標(biāo)注)

技術(shù)啟示:儀器驅(qū)動(dòng)的材料創(chuàng)新

本研究表明:

1lexsyg系統(tǒng)的紫外光源升級(jí)為亞帶隙激發(fā)研究提供關(guān)鍵技術(shù)支撐

2、AlN:Y?O?TL劑量計(jì)領(lǐng)域潛力突出(靈敏度達(dá)其他樣品數(shù)倍)

3、新型320 nm發(fā)光帶的發(fā)現(xiàn)(圖4)為缺陷工程提供新方向

紫外光下的AlN陶瓷:lexsyg儀器揭示新型光電材料特性

4.(a) P1樣品在80 K時(shí)的PL發(fā)射光譜,用250 nm的氙燈激發(fā)(1),用280 nmArF激光激發(fā)(2),用193 nmArF激光激發(fā)(3)。點(diǎn)劃線示出了高斯帶對(duì)曲線(2)的擬合。(b)室溫下用250 nm (1),280nm (2)氙燈和193nm(3)ArF激光激發(fā)G樣品的光致發(fā)光。

研究團(tuán)隊(duì)強(qiáng)調(diào),燒結(jié)工藝和摻雜類型通過改變氧缺陷分布(如Y?O?促進(jìn)Al?Y?O??相形成)明顯影響發(fā)光性能,而lexsyg儀器的高精度光譜解析能力是揭示這些規(guī)律的關(guān)鍵。

結(jié)語

這項(xiàng)研究不僅深化了對(duì)AlN光電機(jī)理的理解,更展示了先進(jìn)分析儀器在材料研發(fā)中的重要作用。lexsyg系統(tǒng)在寬禁帶半導(dǎo)體表征中的優(yōu)勢,為未來功能陶瓷開發(fā)提供了強(qiáng)有力的技術(shù)支撐。

 

 

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